Dzisiejszy tytuł to plan niezbędny do poprawy technicznego obrazu indeksu S&P500. Właściwie to rzut oka na wykres w zupełności wystarcza, ale słów nigdy dość.
Ten na pozór niechlujnie wykonany rysunek sporządziłem dziś z premedytacją. Jak bliżej się przyjrzeć to zauważymy, ze jedna linia dolna biegnie po korpusach, a druga po cieniach. Naniosłem obie linie po to by rozwiać wszelkie wątpliwości. Osobiście preferuję oznaczanie po korpusach, o czym kilkakrotnie wspominałem. Nie ma to jak widać większego wpływu na ocenę sytuacji choć przyznaje, że w tym przypadku linia po cieniach lepiej oddaje sens.
Istotą jednak dzisiejszych rozważań jest podejście pod opór zaznaczony poziomą linią, a jest nim ostatni szczyt z 19 lutego. Zawsze w takich okolicznościach istnieje ryzyko powstania podwójnego szczytu. A na domiar złego pojawia się kolejne ryzyko w postaci dywergencji RSI. Zanegowanie dywergencji uzyskamy kiedy wyłamana zostanie linia prowadzona po szczytach RSI, najlepiej z utworzeniem kolejnego wyższego szczytu. Na plus możemy zaliczyć fakt, że w kanale mamy dokładnie utworzoną strukturę Eliota z brakującym elementem w postaci fali 5.
_6690.jpg)
Brak komentarzy:
Prześlij komentarz